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            新聞詳情 NEWS

            0.768nm!全球最高分辨率光刻機面世

             發表時間:2023-03-07

                    制程工藝在很大一部分程度上決定了芯片的性能水平,就像智能手機SoC芯片中的頂流蘋果A系列芯片,正是因為多代都采用了臺積電的最新先進制程工藝,才保證了性能水平一直保持在業界頂尖。

            0.768nm!全球最高分辨率光刻機面世

                   最強光刻機?

              制程工藝的提升,主要依賴于EUV光刻機。目前,世界上能夠生產EUV光刻機只有ASML一個獨苗。其最新研發的0.55NA EUV光刻機,已經成為了芯片頭部制造企業(臺積電、三星和英特爾)突破納米極限的倚仗。

              但即便是ASML0.55 NA EUV光刻機,也難以突破1nm極限,將制程工藝提升到1nm以下。本以為這將會是一個“死結”,但沒想到的是已經有機構突破了這個極限,將制程工藝精確到了埃米級,實在讓人驚嘆。

            0.768nm!全球最高分辨率光刻機面世

                  更有意思的是,這個實現的突破的機構并不是ASML,而是一家名字叫做Zyvex Labs 的美企。Zyvex Labs專攻于開發和商業化原子精密制造(APM)技術,最近他們推出了一款全球最高分辨率的亞納米分辨率光刻系統“ZyvexLitho1”。

              這個驚人的系統,可以制造僅有0.768nm線寬的芯片,比起還在1nm以上玩耍的EUV光刻機,簡直已經不在一個層面上。不過,ASML已經在業界走到了頭,幾乎沒有人能在同一技術領域擊敗他,Zyvex Labs 當然也不行,其采用的是另一種技術——電子束光刻(EBL)技術。

            0.768nm!全球最高分辨率光刻機面世

                是否會改變芯片制造業格局

              ZyvexLitho1所采用的(EBL)技術,使用了非傳統的氫去鈍化光刻(HDL)技術,從Si(100) 2×1二聚體列(dimer row)重建表面去除氫(H)原子,實現了比傳統的EBL技術更高的分辨率和精確度。

              聽上去都是一些專業術語,其實不知道原理也無傷大雅,我們只要明白Zyvex Labs 公司所研發的ZyvexLitho1系統,已經做到了EUV光刻機所做不到的事情。

            0.768nm!全球最高分辨率光刻機面世

                    問題來了,既然ZyvexLitho1都這么牛了,它接下來會對EUV光刻機形成降維打擊,甚至改變芯片市場的格局嗎?如果真的會這樣的話,Zyvex Labs 公司作為一家美企,豈不是很容易成為一把刺向我們的“刀”?

              好消息是,目前還不用擔心這一點,因為當前市場上的光刻機除了要求制程工藝之外,還需要一個極其重要的屬性——規模量產。EBL電子束光刻機的缺陷恰恰在此,它不適合量產,只適合少量制作高精準的芯片。

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                   當然了這樣不意味著可以高枕無憂了。因為技術一直在向前,保不齊在若干一段時間之后,這個缺陷就會被克服呢?還是那個道理,我們的成功不能建立在別人犯錯或停下腳步的基礎上。

              前沿科技已經成為重要競爭點

              Zyvex Labs 的突破還給我們帶來另一層警示,那就是在一些前沿科技領域,競爭已經非常激烈,我們必須分秒必爭。

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                 以這項突破了制程精度“天際”的技術為例,用其生產的芯片可以被用于量子計算領域,為量子計算機帶去強大的算力。

              量子技術,是未來的方向之一,我國已經走在了世界前列,尤其是量子通信,更是鮮有對手。但現在每天都可能會有新的技術突破發生,繼而對量子競爭的格局產生影響。

            0.768nm!全球最高分辨率光刻機面世

                   說到底,像量子技術,人工智能這樣的前沿科技,比得就是誰跑對了方向,誰跑得更快。而未來將會發生什么,我們也不知曉。唯一可以確定的是:大家都在拼命往前跑,沒有人會在原地等。

             

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